一种低反射增透膜
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摘要
1.一种低反射增透膜，其特征在于：具有一侧弧面设计的基板，所述的基板上由内向外依次镀覆设置氟化镁层、二氧化锆层、二氧化钛层、硫化锌层和聚光层。2.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的氟化镁层厚度为0.01～0.05mm。3.根据权利要1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的二氧化锆层厚度为0.01～0.05mm。4.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的二氧化钛层厚度为0.01～0.03mm。5.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的硫化锌层厚度为0.02～0.08mm。6.根据权利要求1所述的一种低反射增透膜，其特征在于：所述的聚光层厚度为0.02～0.08mm。
基本信息
专利标题 ：
一种低反射增透膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921868689.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-01
授权号 ：
CN210572831U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
缪志恒
申请人 ：
广州奥益光学有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市天河区高科路32号三楼301房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921868689.4
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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