一种声表滤波器晶圆表面的清洁治具
授权
摘要
本实用新型涉及一种声表滤波器晶圆表面的清洁治具，包括清洁平台，所述清洁平台内部形成密封腔体，所述密封腔体通过第一管路连接外部抽真空装置，所述第一管路上设有吸气阀；清洁平台的上表面设有定位槽，定位槽的形状与晶圆外部轮廓匹配，定位槽的表面上分布有和所述密封腔体连通的气孔；清洁平台通过第二管路与真空报警盒连接，所述第二管路上设有与真空报警盒电连接的数显式真空计。本实用新型具有真空吸附晶圆功能，晶圆反面溶剂残留的清洁效果好，且完全避免因人员造成的晶圆刮伤、破裂，降低了原材报废成本。
基本信息
专利标题 ：
一种声表滤波器晶圆表面的清洁治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921879951.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN210607215U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
田松杨聪滨
申请人 ：
无锡嘉硕科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山经济技术开发区联福路1231号
代理机构 ：
无锡华源专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
聂启新
优先权 ：
CN201921879951.5
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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