专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构，支撑架中设置有导轨一，支撑架外部安装有驱动装置一，驱动装置一连接有传动装置一，传动装置一与导轨一连接；支撑架固定有用于与加速器外壳固定的法兰一，导轨一上连接有导轨二，导轨二上设置有法兰二和驱动装置二，驱动装置二连接有传动装置二，传动装置二与法兰二连接，法兰二的移动方向与导轨一的移动方向垂直。本实用新型安装在真空外，其体积尺寸不受加速器内部空间的限制，可以实现复杂而精确的多维运动控制。安装在真空外，其轴承、丝杠、导轨的润滑不再受无油的限制。其传动机构、驱动电机、信号线、电源线等均在加速器外部，选型及设计不再被真空条件限制。
基本信息
专利标题 ：
专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921939496.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-12
授权号 ：
CN210745640U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
赵良超何小中马超凡龙全红杨兴林李洪
申请人 ：
中国工程物理研究院流体物理研究所
申请人地址 ：
四川省绵阳市绵山路64号
代理机构 ：
成都四合天行知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯龙
优先权 ：
CN201921939496.3
主分类号 ：
H05H7/00
IPC分类号 ：
H05H7/00 H05H7/08 H05H13/00
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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