一种便于调节高度的双工位直投式光刻机
授权
摘要

本实用新型公开了一种便于调节高度的双工位直投式光刻机,包括工作箱、转动杆、螺杆、电动机和置物板,所述工作箱上安装有传送带,且工作箱上安装有第一支撑板,并且第一支撑板与第二支撑板相互贴合,所述转动杆安装在连接板上,且转动杆与推动杆相互连接,并且推动杆与承接板相互连接,所述螺杆与工作箱相互连接,且螺杆与承接板相互连接,并且工作箱与转动轴相互连接。该便于调节高度的双工位直投式光刻机,采用可升降装置,实现对第二支撑板高度的调节,从而使第二支撑板上安装的装置高度发生改变,便于对不同厚度的材料进行光刻,采用卡合结构,在光刻机工作过程中无法对装置打开,从而防止工作中的光刻机对工作人员造成伤害。

基本信息
专利标题 :
一种便于调节高度的双工位直投式光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922012313.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-20
授权号 :
CN211427044U
授权日 :
2020-09-04
发明人 :
肖磊
申请人 :
上海探跃半导体设备有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
代理机构 :
北京华识知识产权代理有限公司
代理人 :
乔浩刚
优先权 :
CN201922012313.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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