板带的限位防摆动机构
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摘要
本实用新型板带的限位防摆动机构，包括工件杆、下板带、板带固定杆、下板带限位轨道、限位轴承、限位件增高垫，下板带限位轨道呈圆弧形设置，下板带限位轨道上表面设有轨道凹槽，下板带设于轨道凹槽内，下板带呈圆弧形长条片状设置，限位轴承设于下板带两端，工件杆的底端设于下板带上，板带固定杆固定设于下板带上，限位件增高垫设于下板带限位轨道下方，限位件增高垫设有多组，多组限位件增高垫均匀分布在下板带限位轨道下方。本实用新型属于镀膜设备技术领域，具体是一种防止镀膜工件悬挂杆的下板带在围绕靶材公转时摆动，保证工件杆上的产品与靶材的距离保持不变，从而提高成膜均匀性的板带的限位防摆动机构。
基本信息
专利标题 ：
板带的限位防摆动机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922130982.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-03
授权号 ：
CN211570762U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
尹忠乐朱念青
申请人 ：
佛山市南海区晶鼎泰智能科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区狮山镇狮中村贝奇科技工业园自编1号(住所申报)
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑丰平
优先权 ：
CN201922130982.7
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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