抛光盘及抛光系统

专利权的终止

摘要

本申请提供了抛光盘及抛光系统，涉及光学元件精密加工技术领域。一种抛光盘，抛光盘的内部具有用于储存抛光液的储存腔，抛光盘的抛光面开设有出液口，出液口通过设置于抛光盘内部的通道与储存腔连通。该抛光盘的储存腔内储存有抛光液，在抛光时，抛光盘的抛光层与元件紧密接触，同时抛光液通过出液口流出，实现抛光液在抛光时均匀分布在元件表面，避免多次停止抛光再喷洒抛光液，提高抛光效率。由于抛光液由储存腔经由出液口流出，使得不同出液口流出的抛光液量和压力大致相等，有助于元件表面的抛光液分布均匀。

基本信息

专利标题：

抛光盘及抛光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922216053.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-11

授权号：

CN211220041U

授权日：

2020-08-11

发明人：

侯晶许乔刘世伟陈贤华王健李洁钟波

申请人：

中国工程物理研究院激光聚变研究中心

申请人地址：

四川省成都市武侯区科园一路3号

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

付兴奇

优先权：

CN201922216053.8

主分类号：

B24B13/00

IPC分类号：

B24B13/00 B24B13/01 B24B49/16 B24B57/02