准直装置、安检成像设备
授权
摘要
公开了一种准直装置以及包括该准直装置的安检成像设备。该准直装置包括:准直器,其被配置成对具有束流缝的至少两个束流进行准直;以及遮挡件,其安装在准直器上,并能够在多个位置之间进行切换,所述多个位置包括至少两个遮挡位置,所述至少两个遮挡位置分别与至少两个束流一一对应,以使得当遮挡件位于所述至少两个遮挡位置中的任一遮挡位置时,遮挡件对该遮挡位置所对应的束流进行遮挡。该准直装置通过将遮挡件在多个遮挡位置之间移动,以使得用户可以根据需要对这多个束流中的任一束流进行遮挡,从而满足用户的多种需求。
基本信息
专利标题 :
准直装置、安检成像设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922355226.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN211426824U
授权日 :
2020-09-04
发明人 :
丁光伟吴万龙沈宗俊桑斌曹硕孙玮淇
申请人 :
同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
周永红
优先权 :
CN201922355226.4
主分类号 :
G01V5/00
IPC分类号 :
G01V5/00 G01N23/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01V
地球物理;重力测量;物质或物体的探测;示踪物
G01V5/00
应用核辐射进行勘探或探测,例如,利用天然的或诱导的放射性
法律状态
2020-09-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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