一种扫描式激光辅助微弧氧化装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置，包括：电源、阴极棒、喷嘴、激光器、电解槽、循环泵；所述电源正极与待加工的工件连接，电源负极与阴极棒连接；所述喷嘴为中空管状，阴极棒设于喷嘴上部中空的管内，喷嘴与工件之间在垂直位置上相互靠近但不接触；本实用新型装置无电解槽尺寸束缚，无需超大功率电源，可以进行局部强化或修复处理，降低能耗、提高成膜效率及膜层质量，能够降低微弧氧化起弧电压与能耗，使微弧氧化更容易进行，更快进入到成膜阶段，能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工，解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象，降低工件尺寸对电源输出功率的限制，通过对极间电场的控制，实现特定区域微弧氧化。
基本信息
专利标题 ：
一种扫描式激光辅助微弧氧化装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922362137.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-25
授权号 ：
CN211311631U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
吴国龙陆丹华姚建华王晔
申请人 ：
浙江工业大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学科技处
代理机构 ：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人 ：
黄美娟
优先权 ：
CN201922362137.2
主分类号 ：
C25D11/02
IPC分类号 ：
C25D11/02 C25D11/06 C25D11/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D11/00
表面反应，即形成转化层的电解覆层
C25D11/02
阳极氧化
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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