一种近垂直入射的双点光斑光学系统
授权
摘要

本实用新型揭示了一种近垂直入射的双点光斑光学系统,其包括沿光轴同轴设置的准直镜、负角棱镜、柱面镜以及聚焦镜,单光束经过所述准直镜处理形成准直平行光束,然后经过所述负角棱镜分成两束向外扩张的双光束,再经过所述柱面镜改变双光束形成的光斑形状,再经过所述聚焦镜将双光束近垂直的聚焦到靶平面上形成设定形状大小的两个光斑。本实用新型能够有效的将激光光束分为两束独立而且近垂直于工件表面的入射光,且能在工件表面形成的双点光斑可根据需求灵活调节其大小、形状。

基本信息
专利标题 :
一种近垂直入射的双点光斑光学系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922364491.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-25
授权号 :
CN211123504U
授权日 :
2020-07-28
发明人 :
李勋武陈进刘德军
申请人 :
苏州迅镭激光科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市苏州工业园区娄葑镇东富路58号
代理机构 :
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
汤东凤
优先权 :
CN201922364491.9
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  G02B27/12  G02B7/18  B23K26/21  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2020-07-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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