垂直入射超宽带集成型光电探测器芯片及其制作方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种垂直入射超宽带集成型光电探测器芯片及其制作方法,包括:在载体上制作电容下电极和偏置网络传输线;制作电容介质层;在电容介质层上形成匹配电阻、阻抗匹配网络传输线和电容上电极;形成金属凸点;在二极管芯片背面的衬底上制作微透镜;采用倒装焊的方式将二极管芯片焊接在载体上。本发明中,通过单片集成偏置网络和阻抗匹配网络,实现了对寄生参数的控制,提高了探测器带宽;通过在背面集成微透镜提高耦合冗余度和响应度,并且避免了偏振损耗的影响;各项指标均可达到或超过目前主流的波导型探测器性能指标水平,对超宽带光电探测器的设计和制作有积极意义。
基本信息
专利标题 :
垂直入射超宽带集成型光电探测器芯片及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114284390A
申请号 :
CN202111586437.4
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王立崔大健严雪峰黄晓峰唐艳
申请人 :
中国电子科技集团公司第四十四研究所
申请人地址 :
重庆市南岸区南坪花园路14号
代理机构 :
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
崔雷
优先权 :
CN202111586437.4
主分类号 :
H01L31/18
IPC分类号 :
H01L31/18 H01L31/0232 H01L31/102
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 31/18
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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