精密调节的激光干涉比长基准装置
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摘要
本实用新型公开了一种精密调节的激光干涉比长基准装置，包括地基以及地基上的基础承台；所述基础承台上安装有可左右滑动的滑台，滑台上固定有用于装配待测线纹尺的尺架；还包括用于测量的激光干涉测长系统和线纹读数系统；所述基础承台上沿滑台滑动方向铺设有精密承轨，所述精密承轨包括外轨和内轨；所述外轨为平面承轨，所述内轨为V型承轨；所述滑台底部设置有精密滑动副；所述精密滑动副包括与平面承轨配合的平面滑动副以及与V型承轨配合的V型滑动副。具有上述结构的激光干涉比长基准装置，可实现水平面内的水平直线度微米级调整。V型导轨和平面导轨相结合，特性互补，可实现复合导轨全程直线度优于3μm，大大提高了测量精度。
基本信息
专利标题 ：
精密调节的激光干涉比长基准装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922369206.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-25
授权号 ：
CN210802362U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
汤江文薛靓杨桩蒋丽徐传娣
申请人 ：
中国测试技术研究院机械研究所
申请人地址 ：
四川省成都市玉双路10号
代理机构 ：
成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李华
优先权 ：
CN201922369206.2
主分类号 ：
G01B9/04
IPC分类号 ：
G01B9/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B9/00
组中所列的及以采用光学测量方法为其特征的仪器
G01B9/04
测量显微镜
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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