一种全息光学器件加工系统
授权
摘要

本实用新型公开一种全息光学器件加工系统,包括:计算机控制器、光路系统、运动平台以及待加工的光学基片,所述计算机控制器分别与所述光路系统和所述运动平台电连接,所述光学基片固定于所述运动平台;所述光路系统用于产生光信号并将所述光信号传输至所述运动平台上的所述光学基片,以实现所述光学基片的曝光;所述计算机控制器用于分别向所述光路系统和所述运动平台发送光控制信号和运动控制信号;所述运动平台根据所述运动控制信号控制自身运动以改变所述光信号在所述光学基片上的曝光位置,所述光路系统根据所述光控制信号控制传输至所述光学基片上的光信号的曝光量和曝光时间,以制备不同区域光学性能可变的全息光学器件。

基本信息
专利标题 :
一种全息光学器件加工系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922421405.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-25
授权号 :
CN211375204U
授权日 :
2020-08-28
发明人 :
杜亮朱耀明周知星
申请人 :
深圳惠牛科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区67区高新奇厂房5层BC栋5楼B511
代理机构 :
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 :
刘永康
优先权 :
CN201922421405.3
主分类号 :
G02B27/62
IPC分类号 :
G02B27/62  G02B5/32  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/62
组装光学系统过程中专用于调节光学元件的光学仪器
法律状态
2020-08-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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