等效虚设层抗反射镀膜
授权
摘要
一种等效虚设层抗反射镀膜，包括内层、外层及设于该内、外层间的等效虚设层，该内层及该外层分别由数层高折射率层及数层低折射率层堆栈而成，该等效虚设层包含有由下向上依序相互间隔堆栈的等效高折射率虚设层及等效低折射率虚设层，该等效高折射率虚设层由折射率1.9‑3且硬度大由15Gpa的材料制成，该等效低折射率虚设层为折射率小于1.6且硬度大于10Gpa的材料制成，藉此可使该等效虚设层抗反射镀膜具有较高硬度。
基本信息
专利标题 ：
等效虚设层抗反射镀膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922435011.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211263829U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
张煌明王俊凯蔡宗晏陈永昇王谨铭庄渊州潘泓任薛旭宏江泓逸杨志民李俊仪成柏翰
申请人 ：
光驰科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾苗栗县竹南镇友义路398号
代理机构 ：
长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人 ：
何为
优先权 ：
CN201922435011.3
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 G02B1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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