镀膜离子源防反射保护装置
授权
摘要
本申请涉及一种镀膜离子源防反射保护装置，包括扇叶架基体和安装在扇叶架基体上的若干扇叶，所述扇叶架基体由上顶板，下底板和两个侧板组成，上顶板宽度小于下底板，侧板呈直角梯形，侧板内侧沿直角梯形的斜边布置有若干对向后倾斜设置的安装槽；扇叶的宽度由上到下逐渐增加，安装槽的长度由上到下逐渐增加；本实用新型的镀膜离子源防反射保护装置，可通过激光切割迅速加工成型，开槽间隙相同，槽角度一致，不同宽度扇叶从上至下依次插入基体槽中，拆卸清洗方便；弯折角度和不同扇叶距离分布设计，使离子源轰击进入能量可进不可出，经过多次反射能量在扇叶板内部衰减消失，保证镀膜离子源能量的均匀稳定，消除反射干扰。
基本信息
专利标题 ：
镀膜离子源防反射保护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122750904.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-11
授权号 ：
CN216473441U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
张弛程张辰凡梁婷婷
申请人 ：
苏州华英光电仪器有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区甪直镇张庆街1号甪直智能制造产业园3号厂房
代理机构 ：
苏州汉东知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱洪园
优先权 ：
CN202122750904.4
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C16/02 G02B1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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