本申请公开一种镀膜设备、离子源、以及栅极结构，该镀膜设备包括：真空容器；具有基板保持面的基板保持单元；具有等离子体引出栅极结构的离子源；其中，所述栅极结构包括：具有球面结构的主体部、以及位于所述主体部边侧的平衡部；所述主体部在所述基板保持面上形成第一照射区域；所述平衡部在所述基板保持面上形成第二照射区域；至少一部分所述平衡部的第二照射区域与一部分所述主体部的第二照射区域相重合；成膜单元；所述成膜单元以能够向所述基板保持面的一部分区域供给成膜材料的形式被设置在真空容器中。该镀膜设备、离子源、以及栅极结构能够使得等离子体在被照射区域分布更加均匀。