一种平衡式磁控靶组件翻转机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种平衡式磁控靶组件翻转机构，包括支架和导轨框，所述支架上设置有带座轴承，所述导轨框上设置有与所述带座轴承转动连接的铰接轴；所述导轨框的两侧设置有导轨，所述导轨上滑动设置有滑块，所述滑块连接有锁定连接块，所述锁定连接块连接有靶门板，所述靶门板上设置有靶；所述导轨一端设置有对所述滑块进行限位的靶门平移挡块。本实用新型可以作为多靶磁控溅射镀膜设备中一个独立的机构，结构简单，装配、运输方便，便于对靶的更换、维修等，更换靶材时可单独拆离、更换等，不需要其他的起重或搬运辅助设备，有利于镀膜生产线的高效运行，适用于多种真空镀膜设备。
基本信息
专利标题 ：
一种平衡式磁控靶组件翻转机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922480941.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211497771U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
高贵斌韩应敏
申请人 ：
北京中科科美科技股份有限公司
申请人地址 ：
北京市昌平区回龙观镇国际信息产业基地高新二街2号
代理机构 ：
北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
范赤
优先权 ：
CN201922480941.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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