水处理装置设计支援装置以及水处理装置设计支援方法
公开
摘要

本公开的水处理装置设计支援装置(100)具备:污垢产生量计算部(1),利用成为设计对象的水处理装置所处理的被处理水的被处理水信息,计算附着在设于水处理装置的分离膜上的污垢的产生量;膜间压差计算部(2),利用污垢的产生量,计算在不清洗分离膜地使水处理装置运转的场合下的分离膜的膜间压差的时序变化;清洗时膜间压差计算部(3),利用膜间压差的时序变化和因分离膜的清洗而产生的膜间压差的减少幅度以及膜间压差的上升率,计算清洗分离膜而使水处理装置运转的场合下的分离膜的清洗时膜间压差的时序变化;以及总面积计算部(4),利用清洗时膜间压差的时序变化,计算被处理水的处理所需的分离膜的总面积。

基本信息
专利标题 :
水处理装置设计支援装置以及水处理装置设计支援方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114585591A
申请号 :
CN201980099618.9
公开(公告)日 :
2022-06-03
申请日 :
2019-10-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
八田夏美竹长裕惠今村英二林佳史佐藤祐树吉田航
申请人 :
三菱电机株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 :
李鹏宇
优先权 :
CN201980099618.9
主分类号 :
C02F1/44
IPC分类号 :
C02F1/44  B01D61/10  B01D65/00  B01D65/02  G06F30/20  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/44
渗析法、渗透法或反渗透法
法律状态
2022-06-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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