用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理
公开
摘要
本公开内容的实施方式涉及一种光刻工艺的系统、软件应用程序及方法，利用光刻环境的每个部件可读取的文档来更新掩模图案、无掩模光刻装置参数、光刻工艺参数之中的一者或多者。光刻环境的每个部件可读取的文档储存并共享文本资料，并促进光刻环境的各个部件之间的通信，从而更新对应于要写入的图案的掩模图案，校准光刻环境的无掩模光刻装置，以及校正光刻工艺的工艺参数，以在连续的基板上精确地写入掩模图案。
基本信息
专利标题 ：
用于无掩模光刻系统的通用计量文档、协议及处理
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556217A
申请号 ：
CN201980101225.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2019-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
塔纳·科斯陈正方道格拉斯·约瑟夫·万·迪恩·布鲁克
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201980101225.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
