半导体工程的反应副产物收集装置
授权
摘要
本发明公开了适用于半导体工程的反应副产物收集装置，在反应副产物收集装置中，包括：外壳，采用圆筒管形态，配备有形成气体流入口的上板以及形成向内部延长凸出的气体排出口的下板，用于在对所流入的排出气体进行收容之后再进行排出；以及，流路变更式垂直型内部收集塔，以悬挂的形态安装于上述外壳内部，由用于对所流入的排出气体中的反应副产物进行收集的盘型收集部、扩散板、圆筒形收集部以及圆筒形过滤器收集部构成。
基本信息
专利标题 ：
半导体工程的反应副产物收集装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112337226A
申请号 ：
CN202010004481.9
公开（公告）日 ：
2021-02-09
申请日 ：
2020-01-03
授权号 ：
CN112337226B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
赵宰孝李在濬韩明必
申请人 ：
未来宝株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道平泽市振威面振威产团路32
代理机构 ：
北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
郑青松
优先权 ：
CN202010004481.9
主分类号 ：
B01D46/24
IPC分类号 ：
B01D46/24
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D46/00
专门用于把弥散粒子从气体或蒸气中分离出来的经过改进的过滤器和过滤方法
B01D46/24
采用刚性空心滤体的粒子分离器，如聚尘器
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2021-03-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 46/24
申请日 : 20200103
申请日 : 20200103
2021-02-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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