一种基于激光直写的卤素钙钛矿纳米晶蓝光图案化的方法
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摘要

本发明公开了一种基于激光直写的卤素钙钛矿纳米晶蓝光图案化的方法。卤素钙钛矿是一种在照明、显示、通讯、传感、生物成像及探测等领域有着广泛应用前景的新型荧光纳米材料。卤素钙钛矿纳米晶由于其独特的光学性质,可以通过调节阴离子(卤素)种类与比例实现紫外‑可见‑红外光谱的大面积覆盖。本发明是一种基于激光直写的卤素钙钛矿纳米晶蓝光图案化的方法,利用聚焦激光局域光诱导局域阴离子交换。通过电动平移台程序化移动,实现蓝光荧光图案化。本发明所采用的方法与现有卤素钙钛矿图案换方法相比,实现了纳米晶蓝光图案化,荧光光谱峰位可调控的特点。且有望实现钙钛矿量子点全光谱多色打印。

基本信息
专利标题 :
一种基于激光直写的卤素钙钛矿纳米晶蓝光图案化的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111273518A
申请号 :
CN202010023611.3
公开(公告)日 :
2020-06-12
申请日 :
2020-01-09
授权号 :
CN111273518B
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
邹友生杨演徐晓宝曾海波董宇航
申请人 :
南京理工大学
申请人地址 :
江苏省南京市玄武区孝陵卫街道200号
代理机构 :
南京理工大学专利中心
代理人 :
马鲁晋
优先权 :
CN202010023611.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-13 :
授权
2020-07-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200109
2020-06-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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