谱图的相位校正方法、装置及设备
授权
摘要

本申请提供一种谱图的相位校正方法、装置及设备。其中,谱图的相位校正方法包括:获取待校正的谱图;将至少一个目标矩形窗函数作用于谱图,以得到至少一个目标谱峰,上述目标矩形窗函数用于从谱图中选择出目标谱峰;基于至少一个目标谱峰进行校正处理,以得到谱图中每个频率点对应的零阶相位偏差值和一阶相位偏差值;利用每个频率点对应的零阶相位偏差值和一阶相位偏差值,对每个频率点进行相位校正,得到校正后的谱图。本实施例,通过将至少一个目标矩形窗函数作用于谱图,以得到至少一个目标谱峰,并基于至少一个目标谱峰进行校正处理,以去掉背景噪声和基线的影响,保证后续校正过程的准确性,从而提高谱图相位的校正效果。

基本信息
专利标题 :
谱图的相位校正方法、装置及设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111239657A
申请号 :
CN202010067738.5
公开(公告)日 :
2020-06-05
申请日 :
2020-01-20
授权号 :
CN111239657B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
王一然蒋先旺郭红宇
申请人 :
上海东软医疗科技有限公司;东软医疗系统股份有限公司
申请人地址 :
上海市闵行区紫月路1000号117、119室
代理机构 :
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 :
殷亚平
优先权 :
CN202010067738.5
主分类号 :
G01R33/46
IPC分类号 :
G01R33/46  A61B5/055  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/44
采用核磁共振
G01R33/46
核磁共振频谱
法律状态
2022-05-06 :
授权
2020-06-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 33/46
申请日 : 20200120
2020-06-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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