基于金属介质椭圆腔增强石墨烯吸收结构及其制备方法
授权
摘要
本发明公开了基于金属介质椭圆腔增强石墨烯吸收结构及其制备方法；该方法以二氧化硅作为衬底，金属作为椭圆腔体外壳，二氧化硅作为椭圆腔体内的填充物，石墨烯条带作为光吸收层。通过金属介质椭圆腔结构激发腔体模式，通过石墨烯条带阵列激发石墨烯表面等离子体模式，利用二者之间的强耦合效应来实现单层石墨烯在中红外波段中的宽谱光吸收。本发明实现的石墨烯条带的吸收具有宽谱、强吸收等特性，可以应用在中红外波段中的高性能石墨烯光电器件中。
基本信息
专利标题 ：
基于金属介质椭圆腔增强石墨烯吸收结构及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111624687A
申请号 ：
CN202010305577.9
公开（公告）日 ：
2020-09-04
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN111624687B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
胡国华陈博宇黄磊恽斌峰张若虎崔一平
申请人 ：
东南大学
申请人地址 ：
江苏省南京市玄武区四牌楼2号
代理机构 ：
南京众联专利代理有限公司
代理人 ：
薛雨妍
优先权 ：
CN202010305577.9
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00 H01L31/028 B82Y20/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20200417
申请日 : 20200417
2020-09-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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