一种二元或多元合金层的制备方法
授权
摘要
本发明公开了一种二元或多元合金层的制备方法，属于材料表面改性技术领域。该方法利用等离子表面冶金技术，在阴极增设靶材，与源极靶材共同为样品提供合金元素以形成合金层。通过对合金层成分及含量的合理设计，可以提高基体材料的耐磨性、抗高温氧化性以及抗菌性等性能。本发明中阴极靶材的引入，突破了等离子表面冶金工艺中合金元素仅来源于源极靶材的局限，利用阴极表面水平方向上元素的溅射与沉积现象，实现合金层的制备。
基本信息
专利标题 ：
一种二元或多元合金层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111519150A
申请号 ：
CN202010472824.4
公开（公告）日 ：
2020-08-11
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN111519150B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
吴玉程张孟高洁黑鸿君马丹丹于盛旺
申请人 ：
太原理工大学
申请人地址 ：
山西省太原市万柏林区迎泽西大街79号
代理机构 ：
太原市科瑞达专利代理有限公司
代理人 ：
申艳玲
优先权 ：
CN202010472824.4
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/16 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-09-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20200529
申请日 : 20200529
2020-08-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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