密封结构、真空处理装置和密封方法
授权
摘要
本发明提供密封结构、真空处理装置和密封方法。在真空气氛下进行基片的处理的处理腔室所连接的气体供给配管的密封结构，其包括：第1配管部件，其构成上述气体供给配管，具有形成有与处理腔室连通的开口部的端面；第2配管部件，其构成上述气体供给配管，具有被配置在与上述第1配管部件的端面对置的位置的对置面；弹性体制的密封部件，其以包围上述开口部的方式设置在上述第1配管部件的端面与上述第2配管部件的对置面之间；和片状的多孔部件，其以包围上述密封部件的周围的方式设置在上述第1配管部件的端面与上述第2配管部件的对置面之间。本发明在使用弹性体制的密封部件进行密封时，能够抑制大气透过。
基本信息
专利标题 ：
密封结构、真空处理装置和密封方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112178332A
申请号 ：
CN202010578342.7
公开（公告）日 ：
2021-01-05
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN112178332B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
饭塚八城渡边将久我妻雄一郎
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202010578342.7
主分类号 ：
F16L39/00
IPC分类号 ：
F16L39/00 C23C14/56 H01L21/67
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F16
工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热
F16L
管子；管接头或管件；管子、电缆或护管的支撑；一般的绝热方法
F16L
管子；管接头或管件；管子、电缆或护管的支撑；一般的绝热方法
F16L39/00
用于双壁或多通路管子或管组的接头或管件
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-01-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : F16L 39/00
申请日 : 20200623
申请日 : 20200623
2021-01-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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