用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备

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摘要

一种用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备，其中，用于真空处理设备的密封装置包括：第一部件，所述第一部件包括第一面，所述第一面上具有第一陶瓷层；第二部件，所述第二部件包括第二面，所述第二面与第一面相对；位于所述第一陶瓷层表面的第一聚合物密封涂层；位于所述第一部件与第二部件之间的密封部件，所述密封部件与第一聚合物密封涂层和第二陶瓷层接触。所述密封装置具有低漏率和高抗腐蚀性的特点。

基本信息

专利标题：

用于真空处理设备的密封装置和真空处理设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920597673.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-28

授权号：

CN209762238U

授权日：

2019-12-10

发明人：

王凯麟左涛涛陈星建

申请人：

中微半导体设备（上海）股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司

代理人：

徐雯琼

优先权：

CN201920597673.8

主分类号：

F16J15/10

IPC分类号：

F16J15/10