基于三维硅结构/镍钴氢氧化物复合电极材料及其制备方法
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摘要
本发明提供了一种基于三维硅结构/镍钴氢氧化物复合电极材料及其制备方法:以三维硅结构为基底,在三维硅基底上制备镍、钴氢氧化物生长的生长层,再制备镍、钴氢氧化物活性层。生长层的引入不仅有利于镍钴氢氧化物在硅结构表面的黏附与包裹,还增加了复合电极的比电容。电极的结构有两种:一是将高导电的材料直接覆盖在三维硅结构上作为电极材料的电荷收集层,然后依次制备镍钴氢氧化物的生长层和镍钴氢氧化物的活性层;另一种是将电荷收集层直接覆盖在镍钴活性层表面。本发明制备过程简单,既可制备单金属氢氧化物活性层也可制备双金属氢氧化物活性层,降低了成本,且电极材料结构稳定,可制备出性能优异的硅电极材料,具有广阔的应用前景。
基本信息
专利标题 :
基于三维硅结构/镍钴氢氧化物复合电极材料及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111816453A
申请号 :
CN202010603548.0
公开(公告)日 :
2020-10-23
申请日 :
2020-06-29
授权号 :
CN111816453B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
申小娟王同飞张旋闵春英
申请人 :
江苏大学
申请人地址 :
江苏省镇江市京口区学府路301号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202010603548.0
主分类号 :
H01G11/24
IPC分类号 :
H01G11/24 H01G11/30 H01G11/46 H01G11/48 C01G53/00 C01G53/04
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IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器;电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G11/00
混合电容器,即具有不同正极和负极的电容器;双电层电容器;其制造方法或其零部件的制造方法
H01G11/22
电极
H01G11/24
以电极中材料组成或构成的结构特点为特征的,如形态、表面积或孔隙度;以为此使用的粉末或微粒的结构特点为特征的
法律状态
2022-04-29 :
授权
2020-11-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01G 11/24
申请日 : 20200629
申请日 : 20200629
2020-10-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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