一种新型超材料结构及其制备方法
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摘要

一种新型超材料结构及其制备方法,包括基底,分布在基底上的表面具有周期缝隙阵列的液态金属膜和做封装用的防氧化绝缘性膜层;制备方法涉及:提供基底;借助充填有液态金属墨水的印刷机械装置,按照预先设定的周期图案在基底表面上打印,以形成周期缝隙阵列的液态金属膜;用绝缘性膜层封装周期缝隙阵列的液态金属膜后,完成超材料结构的制备。本发明通过周期缝隙阵列液态金属谐振结构尺寸、形状的参数设计,有效控制入射电磁波的频带宽度和透过率,实现带内高透过率,带外抑制的隐身效果。本发明用于构造各种复合材料基底特别是柔性基底超材料结构,工艺简单,操作方便,能有效降低超材料结构制备成本,大大提高生产效率,具有极高应用价值。

基本信息
专利标题 :
一种新型超材料结构及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111864400A
申请号 :
CN202010681364.6
公开(公告)日 :
2020-10-30
申请日 :
2020-07-15
授权号 :
CN111864400B
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
孙荣庆孙宝岗杨智勇杨昆晓颜鸿斌左小彪王建昌雷琴史汉桥刘云华
申请人 :
航天材料及工艺研究所
申请人地址 :
北京市丰台区南大红门路1号
代理机构 :
中国航天科技专利中心
代理人 :
马全亮
优先权 :
CN202010681364.6
主分类号 :
H01Q15/00
IPC分类号 :
H01Q15/00  H01Q1/42  C09D11/02  
法律状态
2022-05-24 :
授权
2020-11-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01Q 15/00
申请日 : 20200715
2020-10-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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