一种高强度抗撕裂反光膜及其制备工艺
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摘要
本发明公开了一种高强度抗撕裂反光膜及其制备工艺。首先对树脂进行改性，将改性树脂与消泡剂、抗UV剂、无卤阻燃剂、固化剂、气相二氧化硅混合得到基材，将基材涂覆在PET膜上得到植株膜，将改性微珠涂覆在植株膜上，改性微珠一部分陷入基材，改性微珠另一部分涂覆高纯度金属铝层作为反射层；另取基材涂布于PET膜上成膜，将成膜后的PET膜覆盖在PVC植珠膜上得到复合膜，将复合膜在蜂窝形状的纹路热合机上压合，剥离PET膜，得到蜂窝状反光膜；制备得到的反光膜不仅强度高，不易撕裂，反射度高，不易变色老化，使用寿命长还具有一定的自修复能力，大大延长了反光膜的使用周期，具有非常好的使用性能。
基本信息
专利标题 ：
一种高强度抗撕裂反光膜及其制备工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111897040A
申请号 ：
CN202010807605.7
公开（公告）日 ：
2020-11-06
申请日 ：
2020-08-12
授权号 ：
CN111897040B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
陈标
申请人 ：
常州市日月反光材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市钟楼区邹区镇杨庄村
代理机构 ：
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 ：
李帅
优先权 ：
CN202010807605.7
主分类号 ：
G02B5/128
IPC分类号 ：
G02B5/128
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/12
反射式反射器
G02B5/126
包括有折射曲面的
G02B5/128
被嵌入基体的透明球体
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-11-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/128
申请日 : 20200812
申请日 : 20200812
2020-11-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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