渐变色镀膜方法及电子装置壳体
实质审查的生效
摘要
本申请适用于镀膜技术领域，提出一种渐变色镀膜方法，包括：将修正板置于靶材和待镀膜的基板之间，所述修正板包括镂空区和设于所述镂空区两侧的多个依次排列的修正片，所述修正板包括至少一渐变部，所述渐变部中多个所述修正片对所述基板的遮挡长度逐渐增大或减小；对所述靶材进行轰击，以在所述基板上形成镀膜层，所述镀膜层包括至少一个渐变色区域。上述渐变色的镀膜方法能够制作带有渐变色区域的镀膜层，以提升产品外观的美观性和视觉效果。本申请同时提出一种电子装置壳体。
基本信息
专利标题 ：
渐变色镀膜方法及电子装置壳体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114262869A
申请号 ：
CN202010975441.9
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-09-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
胡良云赵克王士敏朱泽力何云富
申请人 ：
深圳莱宝高科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区高新技术产业园区五号路9号
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
耿立平
优先权 ：
CN202010975441.9
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/10 C23C14/14 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20200916
申请日 : 20200916
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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