光罩微粒的定位方法、装置、存储介质与电子设备
实质审查的生效
摘要

本公开提供了一种光罩微粒的定位方法、装置、存储介质与电子设备,属于半导体技术领域。所述方法包括:通过目标光罩的路径数据确定预设时间内所述目标光罩经历的位置数据,所述位置数据包括所述目标光罩在各扫描时刻的微粒信息;根据所述位置数据确定所述目标光罩表面存在微粒时的位置信息,以得到所述目标光罩的目标位置数据;根据所述目标位置数据确定所述目标光罩在相邻扫描时刻内的光罩位置数据,并按照位置优先级在所述光罩位置数据中确定所述目标光罩表面的微粒来源位置;根据所述目标光罩的微粒来源位置生成所述目标光罩在所述预设时间内的微粒位置分析报告。本公开可以提高确定光罩上微粒来源位置的效率,减少制造成本。

基本信息
专利标题 :
光罩微粒的定位方法、装置、存储介质与电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114326296A
申请号 :
CN202011052988.8
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
夏霜
申请人 :
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 :
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 :
王辉
优先权 :
CN202011052988.8
主分类号 :
G03F1/84
IPC分类号 :
G03F1/84  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺,例如清洗
G03F1/84
检查
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/84
申请日 : 20200929
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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