一种测定纯铜中痕量稀土元素镧含量的方法
实质审查的生效
摘要
本发明本发明涉及分析化学技术领域，具体说涉及一种测定纯铜中痕量稀土元素镧含量的方法。利用电感耦合等离子体发射光谱法测定纯铜中痕量稀土元素镧含量，该方法测定的镧含量范围为0.00001％～0.10％。本发明所述方法简单、快速、准确、检测成本低；而且采用本发明中限定的参数进行测定，镧检出限降低了7倍，可以实现以电感耦合等离子体发射光谱仪测定痕量稀土镧。
基本信息
专利标题 ：
一种测定纯铜中痕量稀土元素镧含量的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114324304A
申请号 ：
CN202011053740.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭宏杰
申请人 ：
中国科学院金属研究所
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
代理机构 ：
沈阳晨创科技专利代理有限责任公司
代理人 ：
张晨
优先权 ：
CN202011053740.3
主分类号 ：
G01N21/73
IPC分类号 ：
G01N21/73
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/71
热激发的
G01N21/73
用等离子体喷嘴或吹管
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/73
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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