不光洁探测面的水浸探伤方法
公开
摘要
本发明公开了一种不光洁探测面的水浸探伤方法，其特征在于，利用聚焦探头焦柱附近区域声束截面小、能量集中的特点，通过对整个检测截面进行分区扫查，减小每次检测监控的范围，可以在使用较小仪器增益情况下，满足检测灵敏度要求。同时探头焦点附近区域声场所包含的工件体积范围小，减小了超声波与工件组织相互作用的概率，降低表面粗糙及工件组织漫反射所产生的杂波干扰，改善检测信噪比。该方法适用粗糙探测面的水浸检测。
基本信息
专利标题 ：
不光洁探测面的水浸探伤方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114324613A
申请号 ：
CN202011054554.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
强超
申请人 ：
贵州安大航空锻造有限责任公司
申请人地址 ：
贵州省安顺市西秀区黄果树大街东段322号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011054554.1
主分类号 ：
G01N29/24
IPC分类号 ：
G01N29/24 G01N29/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N29/00
利用超声波、声波或次声波来测试或分析材料；靠发射超声波或声波通过物体得到物体内部的显像
G01N29/22
零部件
G01N29/24
探头
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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