冠醚类材料掺杂Spiro-OMeTAD的空穴传输层及其制...
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摘要

一种冠醚类材料掺杂Spiro‑OMeTAD的空穴传输层及其制备方法和应用,属于太阳能电池技术领域。所述空穴传输层为冠醚类材料掺杂的Spiro‑OMeTAD,其中,冠醚类材料与Spiro‑OMeTAD的摩尔比为(0.0003~0.0093):1。本发明提供的空穴传输层,与未掺杂的空穴传输层相比,冠醚类材料能够与Li+形成大环螯合结构,促进Li‑TFSI在有机溶剂(氯苯、氯仿等)中的溶解,能够有效阻止Li‑TFSI的聚集;此外,这样的螯合结构能够有效改善Li‑TFSI的吸湿性以及有效抑制Li+迁移到钙钛矿太阳能电池的其他层;同时,工艺简单,制备的太阳能电池在保持光电转换效率的同时稳定性大大提升。

基本信息
专利标题 :
冠醚类材料掺杂Spiro-OMeTAD的空穴传输层及其制备方法和应用
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112216797A
申请号 :
CN202011072519.2
公开(公告)日 :
2021-01-12
申请日 :
2020-10-09
授权号 :
CN112216797B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
万中全杨进宇罗军生贾春阳
申请人 :
电子科技大学
申请人地址 :
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
代理机构 :
电子科技大学专利中心
代理人 :
吴姗霖
优先权 :
CN202011072519.2
主分类号 :
H01L51/42
IPC分类号 :
H01L51/42  H01L51/46  H01L51/48  
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法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-01-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/42
申请日 : 20201009
2021-01-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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