显示基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
一种显示基板及其制备方法、显示装置。该制备方法包括：提供衬底基板，衬底基板上形成有多个像素驱动电路，多个像素驱动电路包括第一像素驱动电路和第二像素驱动电路；在衬底基板上形成第一绝缘层；在第一绝缘层上形成第一走线层，第一走线层包括第一连接走线，第一连接走线形成为通过第一绝缘层与第一像素驱动电路电连接；在第一走线层上形成并构图第二绝缘层；在第二绝缘层上形成第二走线层，第二走线层包括第二连接走线，第二连接走线形成为通过第一绝缘层和第二绝缘层与第二像素驱动电路电连接；以及在第二走线层上形成并构图第三绝缘层；第三绝缘层以及第二绝缘层采用同一掩模版进行构图工艺。
基本信息
专利标题 ：
显示基板及其制备方法、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114497118A
申请号 ：
CN202011147168.7
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-10-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
龙跃邱远游蔡建畅吴超肖星亮
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
彭久云
优先权 ：
CN202011147168.7
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L21/77
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20201023
申请日 : 20201023
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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