显示基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
本公开提供了一种显示基板，包括：衬底基板；像素限定层，设置在衬底基板上，包括与第一发光区对应的第一容纳部、与第二发光区对应的第二容纳部、与第三发光区对应的第三容纳部；多个亲疏液改性部，设置于像素限定层背离衬底基板的一侧；亲疏液改性部，被配置为在形成第三发光材料时，在第一预设条件下，在与其相接的两个第三容纳部之间体现为亲液性，在与其相接的两个第一容纳部或两个第二容纳部之间体现为疏液性；在形成第一发光材料和第二发光材料时，在第二预设条件下，在与其相接的两个第三容纳部之间体现为疏液性，在与其相接的两个第一容纳部或两个第二容纳部之间体现为亲液性。本公开还提供了一种显示装置和显示基板的制备方法。
基本信息
专利标题 ：
显示基板及其制备方法、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361229A
申请号 ：
CN202210002468.9
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2022-01-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
崔颖
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
郑旭丽
优先权 ：
CN202210002468.9
主分类号 ：
H01L27/32
IPC分类号 ：
H01L27/32 H01L51/56
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20220104
申请日 : 20220104
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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