显示基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要

显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括:衬底基板;设置在衬底基板一侧的像素限定层,像素限定层包括开口区域以及环绕开口区域设置的非开口区域;设置在像素限定层背离衬底基板一侧的有机材料层;其中,非开口区域内的像素限定层包括隔断结构,隔断结构用于减薄或隔断对应位置的有机材料层。本公开通过在非开口区域内的像素限定层上设置隔断结构,使得对应位置的有机材料层被减薄或隔断,相当于减少或者隔断了各个子像素之间有机材料层的接触,增大了子像素之间有机材料层的接触电阻,更大的接触电阻使得发光子像素产生的漏电流无法流向相邻子像素,从而可以改善侧向漏电以及背面发光,提高显示效果。

基本信息
专利标题 :
显示基板及其制备方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114497161A
申请号 :
CN202210109471.0
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
颜海龙张锴宋二龙吴董杰蔡兴瑞
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京润泽恒知识产权代理有限公司
代理人 :
张翠蓬
优先权 :
CN202210109471.0
主分类号 :
H01L27/32
IPC分类号 :
H01L27/32  H01L51/56  
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/32
申请日 : 20220128
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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