一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法
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摘要
本发明公开了一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法，该方法对满足预设光电性能条件的分子给体、分子受体以及分子连接体进行虚拟合成得到TADF发光分子，将部分TADF发光分子作为样本分子，将样本分子的分子结构转换成ECFP分子指纹，使用基于深度神经网络的回归模型对样本分子的分子特征和发光性能进行训练，并使用训练好的回归模型对所有TADF发光分子发光性能进行预测，最后选择预设发光性能阀值，对TADF发光分子进行筛选，筛选出的TADF发光分子作为实验合成对象。本发明能够很大程度的减少TADF发光分子设计的周期和成本。
基本信息
专利标题 ：
一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112185478A
申请号 ：
CN202011181452.6
公开（公告）日 ：
2021-01-05
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN112185478B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
谭筝史卫梅杨仕清
申请人 ：
成都职业技术学院
申请人地址 ：
四川省成都市高新区站华路15号
代理机构 ：
成都九鼎天元知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡川
优先权 ：
CN202011181452.6
主分类号 ：
G16C20/20
IPC分类号 ：
G16C20/20 G06N3/08 G06N3/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G16
特别适用于特定应用领域的信息通信技术
G16C
计算化学;化学信息学; 计算材料科学
G16C20/20
•鉴定分子实体，其部分或化学成分
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-01-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G16C 20/20
申请日 : 20201029
申请日 : 20201029
2021-01-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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