显示基板及其制备方法、显示装置
实质审查的生效
摘要
一种显示基板，包括：显示区域、挖槽区域以及电容补偿区域。显示区域至少部分地包围挖槽区域，电容补偿区域位于显示区域和挖槽区域之间。电容补偿区域设置有第一电容补偿单元。第一电容补偿单元包括：依次设置在基底上的半导体结构、第一金属结构和第二金属结构。半导体结构和第二金属结构之间的绝缘层设置有多个第一过孔，第二金属结构通过多个第一过孔与半导体结构连接。第一金属结构包括沿第一方向延伸的多条第二栅线。第二栅线与第二金属结构和半导体结构形成电容。多个第一过孔沿第一方向排布，且在垂直于第一方向的第二方向上，相邻两个第一过孔之间的距离至少大于两条第二栅线的宽度之和。
基本信息
专利标题 ：
显示基板及其制备方法、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114429959A
申请号 ：
CN202011187330.8
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周洋韩林宏杨慧娟
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋冬梅
优先权 ：
CN202011187330.8
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L27/32 H01L21/77
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20201029
申请日 : 20201029
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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