一种具有漏斗型印迹通道的多层分子印迹MOFs的制备方法及...
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摘要
本发明公开了一种具有漏斗型印迹通道的多层分子印迹MOFs的制备方法及应用，属于新型功能材料制备及药物缓释技术领域。该制备方法通过以下步骤实现：(1)MOF(Fe)晶种的制备；(2)内相的制备；(3)单印迹层MOFs的合成；(4)双印迹层MOFs的合成。本发明制备方法简单，合成环境友好，制备的具有漏斗型印迹通道的多层分子印迹MOFs能保持良好的结晶度以及较高的比表面积，可应用于药物的高效储存和可控缓释。该多层分子印迹MOFs具有的漏斗式印迹通道可以高效吸附药物，能显著的提高多层分子印迹MOFs对药物的高效吸附储存，并且可以先释放外层药物再释放内层药物从而实现药物的顺序缓释，在药物的智能化缓释领域具有很好的应用前景和发展潜力。
基本信息
专利标题 ：
一种具有漏斗型印迹通道的多层分子印迹MOFs的制备方法及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112390961A
申请号 ：
CN202011212475.9
公开（公告）日 ：
2021-02-23
申请日 ：
2020-11-03
授权号 ：
CN112390961B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
赵祯霞李思涵赵钟兴胡阳汤颖李文愿
申请人 ：
广西大学
申请人地址 ：
广西壮族自治区南宁市大学东路100号
代理机构 ：
南宁启创知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
谢美萱
优先权 ：
CN202011212475.9
主分类号 ：
C08G83/00
IPC分类号 ：
C08G83/00 B01J20/22 B01J20/28 B01J20/30 A61K47/30
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G83/00
在C08G2/00到C08G81/00组中不包含的高分子化合物
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-03-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 83/00
申请日 : 20201103
申请日 : 20201103
2021-02-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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