一种基于区分子图挖掘的软件缺陷发现方法
授权
摘要
本发明提供一种基于区分子图挖掘的软件缺陷发现方法,涉及软件工程技术领域。该方法首先针对一个软件项目提取新旧两个版本的软件包,对新旧两个版本的软件包做相同数据预处理,构建程序的控制流图,并保存到文本文件中,获得正负两类图数据集;对保存到文本文件的控制流图中的程序语句进行哈希转化,使控制流图用程序语句哈希转化后的数值来表示;对得到的哈希转化后的正负两类图数据集进行覆盖图挖掘,得到覆盖图集;根据覆盖图集对正负两类图数据集中的控制流图均进行数据向量化;将数据向量化后的控制流图作为特征训练数据来训练极限学习机,采用投票机制得到训练模型,通过测试后的训练模型对待测程序文件进行测试,发现软件缺陷。
基本信息
专利标题 :
一种基于区分子图挖掘的软件缺陷发现方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112395198A
申请号 :
CN202011303967.9
公开(公告)日 :
2021-02-23
申请日 :
2020-11-19
授权号 :
CN112395198B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
印莹赵宇海
申请人 :
东北大学
申请人地址 :
辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
代理机构 :
沈阳东大知识产权代理有限公司
代理人 :
李珉
优先权 :
CN202011303967.9
主分类号 :
G06F11/36
IPC分类号 :
G06F11/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F11/00
错误检测;错误校正;监控
G06F11/36
通过软件的测试或调试防止错误
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-03-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 11/36
申请日 : 20201119
申请日 : 20201119
2021-02-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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