一种防止导电辊镀铜的装置及方法
授权
摘要
本发明公开了电镀铜膜的制造技术领域中的一种防止导电辊镀铜的装置及方法,导电辊和电镀阳极分别接入第一电源的负极输出端和正极输出端,导电辊和电镀阳极通电后对流经镀池镀液的镀膜产品进行电镀,将导电辊接入第二电源的正极输出端,并配合接入第二电源负极输出端的辅助电极,实现对导电辊的电解,使得导电辊在对镀膜产品进行电镀时避免产生铜沉积。本发明在导电辊在完成电镀的作用前提下,能够实现导电辊附近镀液的电解,使得导电辊上电镀铜与电解铜过程的平衡,避免导电辊上出现铜残留,进而提高镀膜产品镀铜的质量,并且本发明不会增加电镀过程的工艺工序,不会影响电镀过程的实现。
基本信息
专利标题 :
一种防止导电辊镀铜的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112663119A
申请号 :
CN202011398289.9
公开(公告)日 :
2021-04-16
申请日 :
2020-12-04
授权号 :
CN112663119B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
刘文卿臧世伟
申请人 :
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 :
重庆市綦江区古南街道陵园路28号
代理机构 :
深圳市远航专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
田志远
优先权 :
CN202011398289.9
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00 C25D17/12 C25D3/38 C25D21/00 C25D7/00 C25C1/12
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-05-31 :
授权
2021-05-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 17/00
申请日 : 20201204
申请日 : 20201204
2021-04-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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