一种含Ti的Si-C-N陶瓷先驱体及其合成方法和应用
授权
摘要
本发明公开了一种含Ti的Si‑C‑N陶瓷先驱体及其合成方法和应用，将聚甲基硅烷先置于反应釜中，将反应釜升温至80～120℃，然后将含乙烯基聚硅氮烷(Vi‑PSN)滴加进反应釜，第一次回流反应，冷却至室温后，再将TiCl4滴加至反应釜内，第二次回流反应，即得含Ti的Si‑C‑N陶瓷先驱体。本发明的合成方法，先将Vi‑PSN与PMS反应，将烯基基团及N元素带入到PMS的分子结构中，然后再利用TiCl4中的Ti‑Cl键与PMS中的Si‑H反应，对PMS进行灭活处理，同时给先驱体引入Ti元素。所得Si‑C‑N陶瓷先驱体在空气中稳定；并且Ti元素的存在，能够提高陶瓷先驱体与基材之间的粘结性以及烧结陶瓷自身的致密度，从而在一定程度上提高复材的力学性能。
基本信息
专利标题 ：
一种含Ti的Si-C-N陶瓷先驱体及其合成方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112500574A
申请号 ：
CN202011446876.0
公开（公告）日 ：
2021-03-16
申请日 ：
2020-12-11
授权号 ：
CN112500574B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
蒋军军朱建丰薛珊燕
申请人 ：
湖南前驱新材料有限公司
申请人地址 ：
湖南省岳阳市云溪区湖南岳阳绿色化工产业园科技创业服务中心616室
代理机构 ：
长沙市融智专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟丹
优先权 ：
CN202011446876.0
主分类号 ：
C08G79/00
IPC分类号 ：
C08G79/00 C04B35/622
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G79/00
在高分子主链中，由形成含除硅、硫、氮、氧及碳以外的原子的键合反应得到的高分子化合物
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-04-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C08G 79/00
申请日 : 20201211
申请日 : 20201211
2021-03-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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