基于统计学和PIV图像确定喷涂覆膜沉积基线的方法
授权
摘要
本发明公开了一种基于统计学和PIV图像确定喷涂覆膜沉积基线的方法。由于扇形喷涂的整体形貌是动态微弱变化的，喷涂沉积基线长度和位置是变化的，本方法通过PIV技术得到大豆蛋白液粒子喷雾速度场图像，基于每组20张(或若干张)粒子速度场的原始图像，运用统计学的方法和PIV图像求出每组对应的沉积基线的平均长度及其位置。本方法能为大豆蛋白喷涂覆膜沉积基线长度及位置的确定提供参考，进一步为覆膜厚度求解以及得到高质量的类似覆膜成型提供理论和实践依据。
基本信息
专利标题 ：
基于统计学和PIV图像确定喷涂覆膜沉积基线的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112604916A
申请号 ：
CN202011465376.1
公开（公告）日 ：
2021-04-06
申请日 ：
2020-12-14
授权号 ：
CN112604916B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
杨传民蔚俊邢炯龚国腾袁成志
申请人 ：
天津商业大学
申请人地址 ：
天津市北辰区光荣道409号
代理机构 ：
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人 ：
仝林叶
优先权 ：
CN202011465376.1
主分类号 ：
B05D1/02
IPC分类号 ：
B05D1/02 G06F17/18 G06T7/13
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D1/00
涂布液体或其他流体的工艺
B05D1/02
用喷射方法
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-04-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B05D 1/02
申请日 : 20201214
申请日 : 20201214
2021-04-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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