具有透明工件表面模式的计量系统
授权
摘要
一种设有透明工件表面模式的计量系统,对于该计量系统,该系统被配置为在沿着Z高度方向靠近工件的多个位置上改变聚焦位置。获取图像堆栈,其中图像堆栈的每个图像包括透明或半透明的第一表面(例如工件的上表面)以及通过第一表面至少部分可观察的至少第二表面。基于图像堆栈确定多个聚焦曲线(例如,其中利用图案投影来提高对比度),对于该多个聚焦曲线,可以确定每个聚焦曲线中分别对应于第一表面、第二表面等的第一局部聚焦峰、第二局部聚焦峰等。显示包括所选择表面的图像,并且对于该图像,可以测量所选择/所显示的表面的特征。
基本信息
专利标题 :
具有透明工件表面模式的计量系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113008789A
申请号 :
CN202011504114.1
公开(公告)日 :
2021-06-22
申请日 :
2020-12-18
授权号 :
CN113008789B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
R.K.布莱尔
申请人 :
株式会社三丰
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
邸万奎
优先权 :
CN202011504114.1
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01 G01N21/88
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-05-10 :
授权
2021-08-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/01
申请日 : 20201218
申请日 : 20201218
2021-06-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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