在扫描及静态模式中的敏感光学计量
公开
摘要
一种计量系统可包含用于在其中样本上的一或多个计量目标在测量期间静止的静态模式中或其中一或多个计量目标在测量期间处于运动中的扫描模式中选择性地执行计量测量的计量工具及通信地耦合到平移载物台及一或多个检测器中的至少一者的控制器。所述控制器可接收待检验的所述样本上的计量目标的位置，针对使用所述静态模式或所述扫描模式的检验指定所述计量目标，基于所述指定引导所述计量工具在所述静态模式或所述扫描模式中对所述计量目标执行计量测量，及基于对所述计量目标的所述计量测量产生所述样本的计量数据。
基本信息
专利标题 ：
在扫描及静态模式中的敏感光学计量
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450575A
申请号 ：
CN202080067074.0
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
A·希尔A·玛纳森Y·于齐耶尔Y·西蒙G·拉雷多
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘丽楠
优先权 ：
CN202080067074.0
主分类号 ：
G01N21/17
IPC分类号 ：
G01N21/17 G01N21/01 G01N21/95 G06T7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
