面源黑体
授权
摘要
本发明涉及黑体技术领域，公开了一种面源黑体，该面源黑体包括基板以及在基板上沿第一方向排布的多个第一辐射组件，其中，每相邻的两个第一辐射组件之间设置有至少一个第二辐射组件；第二辐射组件包括的辐射体为活动辐射体，活动辐射体与基板可拆卸连接，且活动辐射体的底面与基板之间设有导热填充层。该面源黑体改善了现有技术中面源黑体导热率不理想的问题。
基本信息
专利标题 ：
面源黑体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112729569A
申请号 ：
CN202011551311.9
公开（公告）日 ：
2021-04-30
申请日 ：
2020-12-24
授权号 ：
CN112729569B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
蒋苏民陈鸿武郑东辉
申请人 ：
浙江大华技术股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵凯莉
优先权 ：
CN202011551311.9
主分类号 ：
G01J5/52
IPC分类号 ：
G01J5/52
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/50
用下列各组指明的技术
G01J5/52
应用与参考源作比较的方法，例如，隐丝高温计
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-05-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 5/52
申请日 : 20201224
申请日 : 20201224
2021-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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