一种面源黑体及其设备
授权
摘要
本申请公开了一种面源黑体及其设备，面源黑体包括：基体，基体的表面形成有微孔；无机盐，填设于微孔内；封闭层，封闭盖设于基体上形成微孔的表面。本申请中面源黑体及其设备能够提高发射率。
基本信息
专利标题 ：
一种面源黑体及其设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021222435.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN212320930U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
王世辉陈健纪国伟张超
申请人 ：
浙江大华技术股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黎坚怡
优先权 ：
CN202021222435.8
主分类号 ：
G01J5/52
IPC分类号 ：
G01J5/52
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/50
用下列各组指明的技术
G01J5/52
应用与参考源作比较的方法，例如，隐丝高温计
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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