面源黑体装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种面源黑体装置。该面源黑体装置包括外壳和辐射体。外壳包括壳体和支撑盖，壳体具有开口，且支撑盖安装于壳体的开口处。辐射体的一端具有辐射面，且辐射体具有辐射面的一端连接于支撑盖；而支撑盖具有窗口，辐射面抵接于支撑盖的窗口以使辐射面通过窗口向外辐射能量。支撑盖的导热率小于或等于0.3W/(m·K)。支撑盖的导热率远远小于常见金属材料的导热率。因此，支撑盖所能消耗的能量则会大大减少，辐射体达到工作温度的时间会变短，从而有效解决了支撑盖导热率较高导致的面源黑体装置开机时间长的问题，提高了面源黑体装置的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
面源黑体装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021791471.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-25
授权号 ：
CN213041385U
授权日 ：
2021-04-23
发明人 ：
吴小伟杨建军宣国健吴轶
申请人 ：
浙江大华技术股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
代理机构 ：
杭州华进联浙知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋豹
优先权 ：
CN202021791471.6
主分类号 ：
G01J5/52
IPC分类号 ：
G01J5/52 H05B3/34
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/50
用下列各组指明的技术
G01J5/52
应用与参考源作比较的方法，例如，隐丝高温计
法律状态
2021-04-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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