用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法
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摘要
本发明公开了一种用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法,包括基底,所述基底沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域;四个所述区域从左至右依次分别为高基底层、高金属层、低基底层和低金属层;在所述高金属层和低金属层的上表面均设置有金属掩膜层;所述低金属层和低基底层的高度不同;所述高金属和高基底层的总高度相同。本发明将基底沿着水平方向上光栅按照一个周期被划分成四个区域,四个区域的横向宽度相等,四个区域的高度不同,由于四个区域能够提高光强和相位双重控制的精确性,从而能够减少0级光的衍射效率,将能量集中到±1级,而且能够提升光栅干涉仪等系统的信号对比度和信噪比。
基本信息
专利标题 :
用于振幅/相位双重调制的四区域光栅及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112731577A
申请号 :
CN202011570268.0
公开(公告)日 :
2021-04-30
申请日 :
2020-12-26
授权号 :
CN112731577B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
董亭亭潘德彬姚远王建波项青
申请人 :
华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区雄楚大街981号
代理机构 :
武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
刘璐
优先权 :
CN202011570268.0
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-05-10 :
授权
2021-05-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20201226
申请日 : 20201226
2021-04-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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