实现可重构水印的超表面彩色纳米印刷器件的设计方法

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摘要

本发明提供一种实现可重构水印的超表面彩色纳米印刷器件的设计方法，包括：构建超表面阵列；优化仿真获得多组尺寸参数的纳米砖结构单元的反射光谱，并计算得到其结构色；设计目标彩色图像，根据目标彩色图像的颜色分布选择结构色符合要求的几组尺寸参数作为备选尺寸参数；根据目标彩色图像各像素点的颜色从备选尺寸参数中找到各像素点对应的纳米砖结构单元对应的尺寸参数；设计待叠加的水印图像，在上述步骤基础上将无水印叠加的像素点对应的纳米砖结构单元的纳米砖转向角设为α，将有水印叠加的像素点对应的纳米砖结构单元的纳米砖转向角设为α±90°。本发明加工误差容忍度高，降低了设计和加工难度，有着很好的发展前景。

基本信息

专利标题：

实现可重构水印的超表面彩色纳米印刷器件的设计方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112733343A

申请号：

CN202011611400.8

公开（公告）日：

2021-04-30

申请日：

2020-12-30

授权号：

CN112733343B

授权日：

2022-04-15

发明人：

郑国兴彭畅戴琦李子乐邓联贵

申请人：

武汉大学

申请人地址：

湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

代理机构：

武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

罗敏清

优先权：

CN202011611400.8

主分类号：

G06F30/20

IPC分类号：

G06F30/20 G06F30/17 G06T1/00 G06F111/14